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中國有色金屬報、中國有色金屬雜志:光電科技公司光伏電池生產(chǎn)氮化硅薄膜沉積工藝取得突破
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來源:中國有色金屬報|2017/9/5 0:00:00|作者:劉碧峰|人氣:11445

日前,通過對工藝技術(shù)的創(chuàng)新研發(fā)和反復(fù)實驗,陜西有色光電科技有限公司太陽能電池PECVD工序取得了關(guān)鍵技術(shù)突破,研發(fā)出沉積三層氮化硅膜的最優(yōu)工藝條件,電池片轉(zhuǎn)化效率提升了0.07%—0.1%,現(xiàn)已導(dǎo)入產(chǎn)線批量生產(chǎn)。

實驗結(jié)果表明,三層氮化硅薄膜的互補作用對電池片起到了很好的減反射效果,第一層氮化硅膜厚在10nm左右,折射率在2.4—2.6之間,起到了很好的鈍化作用,第二層氮化硅膜厚在30nm左右,折射率在2.0—2.2之間,第三層膜厚在45nm左右,折射率在2.0以內(nèi),三層膜系結(jié)構(gòu)設(shè)計可使入射的太陽光在電池內(nèi)多次折射,最大程度地增加了對光的吸收,顯著降低了電池表面的光反射,同時,在實驗的過程中將三層氮化硅薄膜沉積工藝改為間斷性沉積后,氮化硅薄膜平均等效厚度在80—85nm,等效折射率為2.08—2.15,平均反射率降低了2%,相比兩層膜的連續(xù)性沉積工藝大大提升了氮化硅膜的致密性,提高了氮化硅膜對電池片的鈍化效果,增大了電池片的開路電壓和短路電流,從而既顯著提高了電池片的轉(zhuǎn)換效率,又極大地改善了原來兩層膜工藝出現(xiàn)的色差問題。

光電科技公司電池事業(yè)部工藝技術(shù)研發(fā)團隊堅持高標(biāo)準(zhǔn)、嚴(yán)要求的工作理念,聚焦太陽能電池生產(chǎn)工藝前沿技術(shù)不懈進行科技創(chuàng)新,持續(xù)攻關(guān)關(guān)鍵技術(shù),依托公司擁有的當(dāng)今國際光伏行業(yè)最先進的全自動生產(chǎn)線,持續(xù)對電池產(chǎn)線各道工序進行工藝優(yōu)化、技術(shù)升級,例如5主柵高效單/多晶電池片、無網(wǎng)結(jié)技術(shù)導(dǎo)入等,從而使得電池片轉(zhuǎn)換效率達到國內(nèi)一流水平,各項性能指標(biāo)達到業(yè)內(nèi)第一,得到了國內(nèi)外客戶的廣泛認(rèn)可,贏得了良好口碑。

(原文鏈接:http://paper.cnmn.com.cn/Content.aspx?id=134957&q=4010&v=4,中國有色金屬報2017年9月7日4版)

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